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高通量统计映射表征技术研究进展及其应用 Review
王海舟, 赵雷, 贾云海, 李冬玲, 杨丽霞, 卢毓华, 冯光, 万卫浩
《工程(英文)》 2020年 第6卷 第6期 页码 621-636 doi: 10.1016/j.eng.2020.05.005
Ni-Ti-Cu-V四元薄膜库中微观结构和相变的组合合成和高通量表征 Article
Naila M. Al Hasan, Huilong Hou, Suchismita Sarkar, Sigurd Thienhaus, Apurva Mehta, Alfred Ludwig, Ichiro Takeuchi
《工程(英文)》 2020年 第6卷 第6期 页码 637-643 doi: 10.1016/j.eng.2020.05.003
关键词: Ni–Ti–Cu–V合金 组合材料科学 四元合金 形状记忆合金 薄膜库 弹性冷却 热弹性冷却 相变 高通量表征 属性映射 机器学习
双层高通量计算——包括翘曲情况下的有效质量计算 Article
Andrew Supka, Nicholas A. Mecholsky, Marco Buongiorno Nardelli, Stefano Curtarolo, Marco Fornari
《工程(英文)》 2022年 第10卷 第3期 页码 74-80 doi: 10.1016/j.eng.2021.03.031
本文使用了双层高通量计算。在涉及改变晶体结构和(或)化学成分的第一层中,本文分析了选定的IIIV半导体、填充和未填充的方钴矿,以及岩盐和层状硫属化物。第二层在整个布里渊区(BZ)中搜索费米能级1.5 eV (1 eV = 1.602176×10−19 J)范围内的临界点,并通过计算有效质量来表征这些点。
高通量计算的兴起 None
Ning-hui SUN, Yun-gang BAO, Dong-rui FAN
《信息与电子工程前沿(英文)》 2018年 第19卷 第10期 页码 1245-1250 doi: 10.1631/FITEE.1800501
关键词: 高通量计算;系统熵;信息高铁
用于材料探索与优化的高通量多羽流脉冲激光沉积 Article
Samuel S. Mao,Xiaojun Zhang
《工程(英文)》 2015年 第1卷 第3期 页码 367-371 doi: 10.15302/J-ENG-2015065
笔者设计并实现了高通量多羽流脉冲激光沉积 (MPPLD) 系统,而且与传统的高通量薄膜材料合成技术进行了比较。这个新系统更适合以高通量的手段制备多组分化合物薄膜材料。
焦鹏,陈必强
《中国工程科学》 2016年 第18卷 第4期 页码 44-50 doi: 10.15302/J-SSCAE-2016.04.007
航空宽带卫星通信系统前向链路中继性能分析 Research Articles
孔槐聪1,林敏1,何世文2,3,刘笑宇1,欧阳键1,朱卫平1,4
《信息与电子工程前沿(英文)》 2021年 第22卷 第6期 页码 790-801 doi: 10.1631/FITEE.2000445
王志强,刘嘉伟,王军,岳光荣
《信息与电子工程前沿(英文)》 2021年 第22卷 第4期 页码 560-570 doi: 10.1631/FITEE.2000451
孙毅,范灵俊,洪学海
《中国工程科学》 2018年 第20卷 第2期 页码 27-32 doi: 10.15302/J-SSCAE-2018.02.005
本文介绍了区块链技术发展和行业应用的现状,对区块链未来大规模应用会面临的技术挑战进行了剖析,综述了区块链体系结构、共识算法、隐私保护、智能合约、跨链通信等关键问题的研究现状,从技术、人才和监管三个方面对我国进一步发展区块链技术及应用的政策提出了建议。
洪伟1,岳光荣2,葛晓虎3,王海明1
《信息与电子工程前沿(英文)》 2021年 第22卷 第4期 页码 437-440 doi: 10.1631/FITEE.2120000
标题 作者 时间 类型 操作
Ni-Ti-Cu-V四元薄膜库中微观结构和相变的组合合成和高通量表征
Naila M. Al Hasan, Huilong Hou, Suchismita Sarkar, Sigurd Thienhaus, Apurva Mehta, Alfred Ludwig, Ichiro Takeuchi
期刊论文
双层高通量计算——包括翘曲情况下的有效质量计算
Andrew Supka, Nicholas A. Mecholsky, Marco Buongiorno Nardelli, Stefano Curtarolo, Marco Fornari
期刊论文
邱权:高通量表型获取机器人研究(2020年8月18日)
2022年10月17日
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